中古 ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 601E #9197180 を販売中

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ID: 9197180
Deep reactive ion etcher (DRIE).
ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER 601Eは、半導体ウェーハの物理的および化学的エッチング用に設計されたエッチャー/アッシャーです。ヘリウム、水素、酸素など幅広いウェハプロセスガスに対応できる不活性ガスプラズマ強化エッチャーです。エッチャーは、高分解能で調整可能な時間と温度制御により、ウェーハの均一な加熱と化学エッチングを提供します。これは、正確なガス分布のためのマルチゾーンガスパネルなど、最適な動作のためのいくつかの自動機能を備えています。ADIXEN 601Eは、幅広い機能を備えた汎用性の高いエッチャーです。カスタマイズ可能な時間と温度設定により、単一または複数のウェーハエッチング操作をサポートし、不要な材料を均一かつ効率的に除去できます。さらに、エッチャーは調整可能なガス流量と圧力レベルを提供し、ユーザーはプロセスを特定の要件に合わせて調整することができます。エッチャーには、ウェーハごとに最大8種類のターゲットを作成できる高解像度の調整可能なターゲットパターンジェネレータも装備されています。ALCATEL 601Eは操作が簡単で、いくつかの安全機能が含まれています。エッチングプロセスのフィードバックを提供し、トラブルのない操作を可能にする診断ディスプレイを備えています。さらに、エッチャーには一連の安全インターロックとアラームが含まれており、不適切な条件の場合には視覚的および可聴的なアラートを提供します。その他の便利な機能には、緊急シャットダウンボタンと、安全性を向上させる自動シャットオフシステムがあります。601Eは、品質と信頼性の最高水準を満たすように設計されています。耐食性ステンレス製で、長期間の作業でサンプルの完全性を損なうことを防ぐ真空水晶窓を備えています。また、極端な温度および圧力条件で動作するように設計されているため、幅広い用途に適しています。さらに、エッチャーは、SEMI (Semiconductor Equipment and Materials International)およびその他の業界固有の安全および品質基準の要件を満たすように設計されています。
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