中古 ANHUI BEQ BTF-1200C #9136548 を販売中

ANHUI BEQ BTF-1200C拡散炉とアクセサリーは、半導体業界で使用するために設計されており、優れた拡散処理能力を提供します。高効率の耐熱素子で両端を加熱できる石英管を採用し、高精度温度制御と均一な加熱が可能です。チューブ内部には、処理中に均一で均一な加熱を可能にする高品質のスプレッダーがあります。処理された区域の温度は± 0。5°Cの正確さの100から1200°Cに調節することができます。また、冷却ファンと空気循環装置を内蔵し、均一な処理環境を実現しています。BEQ BTF-1200C拡散炉は窒素、シリコン、アルゴンを含む複数の材料を処理することができ、最適な結果を得るために精密なプロセス制御を可能にする統合されたプロセス制御システムを備えています。イオン注入、酸化、シリシデーション、太陽電池処理、拡散など、さまざまなプロセスを可能にする複数のプロセスアウトレットを備えています。さらに、処理を成功させるための理想的な環境を確保するために、自動圧力監視ユニットを内蔵して設計されています。BTF-1200Cは、真空、不活性ガス、酸素、窒化物など、さまざまな大気環境で元素を処理します。窒素生成モジュールを内蔵しており、半導体ウェハをドーピングする際の効率と精度を向上させます。これに加えて、排気を継続的に浄化する自動排気ガス浄化機を備えており、ツールを清潔に保ち、汚染から解放します。BTF-1200C拡散炉はポータビリティを念頭に置いて設計されており、ポンプやチューブなどの必要な部品がすべて含まれています。過熱、過電流、非常停止スイッチなどの自動遮断などの安全対策も備えています。ANHUI BEQ BTF-1200C拡散炉とアクセサリーは、半導体業界にとって信頼性が高く効率的な選択肢であり、最適な結果を得るために高精度の温度制御と優れたプロセス均一性を提供します。それは長期使用のために設計され、半導体製造のための非常に求められた選択をするためにすべての部品を含んでいます。