中古 ASML AT 1100 #293664232 を販売中

ASML AT 1100は、今日の大手半導体メーカー向けに設計された高精度ウェーハステッパーおよびリソグラフィツールです。半導体ウェーハの微細な特徴を0。6ミクロンの分解能でパターン化する先端技術を使用しています。4軸スキャナは、ウェーハステージにレチクルを配置し、2インチ（50。8mm）から12インチ（304。8mm）の範囲をカバーできます。機械の平行多軸エアベアリング設計により、レチクルとウェーハの正確なアライメントとモーションコントロールが可能です。短波長の液浸リソグラフィー技術を使用することで、フィーチャーサイズをさらに削減できます。シリコン液浸レンズを採用した2視野光学設計は、6倍の深度低減機能を備えており、より密接にパターン化することができます。さらに、2フィールド光学設計により、0。93の高い数値開口が得られ、サイクルタイムが短縮されます。AT 1100は、ASML ACEソフトウェアを搭載したターンキーシステムです。これは、最適な紫外線露光を達成するために、均等度、強度、および多層エネルギー均一性アルゴリズムからの最適なレーザー源の特性を使用しています。また、TML （Time Modulated Laser）システムを使用して、レーザー照明で一般的に見られる熱誘導歪みを低減します。ASML AT 1100は、プレースメントモニター（PM-1）およびウェーハステージ計測機能により、高度なオーバーレイ性能と精度も提供します。X/Yでは4nm、 Zでは2nm、 Zでは5nmの位置精度を持ち、露出時の最大精度を確保しています。機械には、手動調整を必要とせずに、迅速で正確で再現可能なアライメントを提供する統合モーター付きのCo-Alignerが装備されています。最高の信頼性とスループットを保証するために、AT 1100には、マイナーな問題を検出し、オペレータに警告するインテリジェントサービスモジュールが装備されています。さらに、包括的なプロセス監視およびレビューツールが統合されており、プロセスを最大限に管理できます。結論として、ASML AT 1100は、0。6ミクロンの分解能とTMLシステムや統合されたコアライナーなどの高度な機能を備えた半導体アプリケーション向けに設計された精密ウェーハステッパーです。このマシンは、インテリジェントなサービスモジュールとプロセス監視機能により、高い精度と信頼性を提供します。AT 1100は、半導体ウェーハの製造において信頼性が高く、かつ高性能な選択肢です。