中古 ULTRATECH / VEECO Savannah G2 #9396984 を販売中

ID: 9396984
Atomic Layer Deposition (ALD) System S200 G2 (2) EDWARDS Vacuum pumps IBM Thinkpad with cables Reactor chamber Electronic control box with access panel removed Pumps parts included.
ULTRATECH/VEECO Savannah G2は、主に幅広い薄膜を堆積するために使用される原子層成分(ALD)原子炉です。直径数〜数百ナノメートルの薄膜の成長を正確に制御できます。この装置は、プロセスガス分配のためのコールドウォール技術を備えた単一のチャンバー大気圧ALD原子炉です。このシステムは、-40°Cの温度と、酸化物、窒化物、金属などの材料を堆積させることができる反応性ガス混合物の範囲を扱うことができます。VEECO Savannah G2には、反応性の高いガスに適した2つのシャワーヘッドガスインジェクタが装備されています。これらのインジェクタは、低流量で均質なガス流量を提供するように設計されています。さらに、シャワーヘッドはバッチプロセス操作に適しています。バーストモードが付属しているため、材料をパルス状に堆積させ、均一で反復可能な結果を保証します。さらに、サンプルを加熱し、サイクル間で冷却する必要がある場合に、フィルムの成長などの高スループットプロセスを提供する急速な温度ランピング機能を備えています。また、水やヒドロキシなどの反応性の高いガスを使用する際に、チャンバー内の圧力を制御するための窒素パージ工具も装備しています。さらに、このアセットには、正確な熱データとチャンバの温度を制御するためのリアルタイムフィードバックを提供する統合された光学ピロメータがあります。機械的なクラムシェルチャンバーの開口部により、ユーザーは部品を取り外したり変更したりすることなく、簡単にチャンバーにアクセスできます。また、ユーザーの要件に応じてプロセスをカスタマイズするためのプラットフォームを提供する高度な制御ソフトウェアが装備されています。ULTRATECH Savannah G2は5nm/minまで成長率を達成することができ、同じフィルムを複数回入金するときに非常に良い再現性を持っています。新素材の研究開発や、マイクロプロセッサ、太陽電池、発光ダイオードなどの薄膜デバイスの製造にも成功しています。
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