中古 SURFTECH / DAEDALUS Star4 #293608633 を販売中
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ID: 293608633
Ion coating system
Coating technology:
Special coating recipe: AlTiCrN, TiSiN, TiN, CrN
Process chamber:
Type: Stainless steel double walled chamber with shutter
Chamber size: 900 x 850 mm
Usable plasma zone: 600 x 550 mm
Arc source:
Deposition source: (4) Circle cathode targets, 6"
Power supply: (4) Digital DC power supplies
Auto trigger detection system
Pump:
ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER Turbo molecular pump, 1500 L/s
ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER Primary pump, 65 m³/h
ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER Booster pump, 250 m³/h
Vacuum measure:
SUCO Piezo gauge
(2) ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER Pirani gauges
ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER Penning gauge
MKS Baratron Gauge
Gas control:
MKS Mass Flow Controller (MFC), Ar and N2
(2) Heaters, 18 kW:
Measure: (2) Thermocouples
PID Temperature controller
Substrate and carousel:
Carousel: 580 x 600 mm
Loading capacity: 500 kg
BIAS Power supply: Integrated ARC suppression, 15 kW, DC 1000 V, 25 A
Touch panel PC, 17"
Power supply: 380/400 V, 50/60 Hz, 45 kW, 3-Phase.
SURFTECH/DAEDALUS Star4は、主に精密半導体リソグラフィ用に設計された高性能フォトレジスト装置です。フォトレジストは、半導体デバイスや回路の製造に使用される光感受性材料です。SURFTECH Star4は、優れた均一性とプロセス安定性を提供し、クラス最高の解像度を0。1 umまで提供します。DAEDALUS Star4は、特許取得済みのQuad Light Source™を備えており、非常に均一で広いUV光スペクトルを放出し、プロセスの一貫性を向上させます。これは、優れた光均一性と高いスループットを実現する高度な光学系と組み合わされています。Star4はまた正確な、反復可能な直線および焦点のための高精度のウェーハの段階を提供します。SURFTECH/DAEDALUS Star4には、豊富なプロセス制御と収集機能が含まれています。このシステムは、ロボットまたは手動ローディングの選択と、レシピと繰り返し可能なプロセスを管理するための強力なコントローラを提供します。内蔵のソフトウェアシステムは、分析とデータ保持を提供し、オペレータはリアルタイム分析を通じてレシピをレビューおよび調整することができます。さらに、精密なフォーカス制御のためのオプションのモーター式オプティクスは、プロセス開発をさらに加速し、精度を向上させます。SURFTECH Star4には、高いスループットと機器セットポイントへの透過的なアクセスを提供するプロセスコントロールも装備されています。内蔵の欠陥検査システムは、最適化の前に仕様製品から検出し、歩留まりを改善します。このユニットは、工場の既存の製品ラインに簡単に統合でき、迅速な統合が可能です。DAEDALUS Star4は、あらゆるアプリケーションに適した多種多様なオプションで、操作、メンテナンス、アップグレードが簡単です。また、画面上および画面外の方法による診断情報や、さまざまなユーザーに適した詳細なリソースの大規模なライブラリも提供しています。このツールは、SEMI 2000リソグラフィ規格を超えるように設計されています。全体として、Star4は、堅牢なパフォーマンス、プロセス制御、および反復可能な均一性を提供する高性能フォトレジストアセットです。優れた解像度、信頼性の高い欠陥検出、寿命特性により、このモデルはあらゆる半導体生産ニーズに適しています。
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