中古 VEECO Gen II #9359604 を販売中

分子ビームエピタキシーは、層の厚さ、均一性、および組成を正確に制御する薄膜材料を作成するための高度な技術です。VARIAN/VEECO GEN IIは、高性能と汎用性を提供する最先端の分子ビームエピタキシー装置です。VEECO GEN IIは、従来および既存のMolecular Beamエピタキシシステムよりも高い成長率を達成するように設計されています。VARIAN GEN IIは、気化可能な材料の3つの独立したソースからなるトリプルメタル、トライソース（TMTS）構成を利用しています。TMTS、超低ドーパント分数、高面積の材料均一性、および調整可能な成長率により、お客様は最適なパフォーマンスのためにデバイス設計をカスタマイズすることができます。さらに、TMTSの代替ソースアームにより、リアクタント材料の追加ソースを追加して、組成柔軟性を高め、多層成長を可能にします。GEN IIには、リアルタイムのin-situモニタリングシステムとコンピュータ制御のシャッターアセンブリが装備されており、フィルムの成長をより制御できます。リアルタイムユニットは、膜厚、均一性、ドーピングレベルを監視し、材料沈着プロセスの優れた制御を可能にします。シャッターアセンブリを使用して、堆積から選択した領域をマスクし、不純物濃度、層均一性、組成をより制御できます。VARIAN/VEECO GEN IIは、パフォーマンスの向上に加えて、優れた環境安定性と清潔性を提供します。このマシンには超低排ガス超高真空（UHV）コンポーネントが装備されており、ウェーハ上に汚染物質が沈殿する可能性を低減します。さらに、VEECO GEN IIは、望ましくない粉塵粒子の形成を排除するのに役立つガスビームインペラを備えています。全体として、VARIAN GEN IIは、優れた性能、汎用性、および環境安定性を提供する高度な分子ビームエピタキシーツールです。GEN IIは、優れたリアルタイムモニタリング機能、カスタマイズ可能な成長率と組成、および超低排ガス成分を提供することにより、蒸着プロセスの制御を強化し、均一で再現性のある正確に構造化された薄膜材料を作成します。