中古 VEECO Gen II #9359602 を販売中

Molecular Beam Epitaxy （MBE）は、様々なマイクロエレクトロニクスデバイス用途の材料の原子的に精密な層を作成するために使用される複雑な薄膜蒸着プロセスです。VARIAN/VEECO GEN II MBE装置は、大学および商業部門の研究開発ラボおよびメーカー向けに設計されたフル機能のMBEマシンです。このMBEシステムは、多くの環境パラメータと基板位置を正確に制御することにより、低圧から超高真空までのさまざまな蒸着プロセスを管理できます。VEECO GEN II MBEは、2つの専用グループVと1つの専用グループIII低圧源（それぞれレニウムとヒ素）を持つ4ソースの傾斜源ユニットです。4番目のソースは、GaAsおよび関連する合金の成長に最適化された超高真空源マシンです。メインフレームのガスソースバルブは、MBEチャンバ内と外部への素早くクリーンな基板搬送を可能にし、内蔵の安全インターロックツールは資産条件を監視して安全な動作を保証します。精密な基板位置決めは、線形操作段階によって提供され、さまざまなMBEローディングおよびアンロード源に統合することができ、精度と再現性を確保します。さらに、VARIAN GEN IIには、熱電対の柔軟性を備えた手動およびクローズドループの温度制御も含まれています。残留ガス分析は、レーザー増強マルチパルス四極質量分析計によって提供され、精度と速度を向上させます。GEN II MBEモデルは、ユーザーのエクスペリエンスをより効率的にするために設計されたさまざまな制御およびオートメーション機能を備えています。これには、セットアップと制御を可能にするユーザーフレンドリーなグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）が含まれます。さらに、このMBE機器は、最適化された成長と再現性のために、複数の事前にプログラムされたレシピプロトコルを備えています。全体として、VARIAN/VEECO GEN II MBEは、原子的に精密な材料層を作成するための高性能で正確なシステムをユーザーに提供します。優れた温度制御、正確な基板位置決め、クローズドループ操作、強化された安全インターロックユニットとガス源バルブ、効率的なGUI制御と自動化を提供します。VEECO GEN II MBEマシンは、さまざまな機能と最先端の技術要件を満たす能力を備えており、多くの研究および製造プロジェクトにとって貴重なツールであることは間違いありません。