中古 CANON MPA 500 Fab #9226312 を販売中

CANON MPA 500 Fabは、高密度半導体デバイスなどのマイクロエレクトロニクス部品の製造プロセスにおける高度なフォトリソグラフィ機能を提供するために設計された高性能で信頼性の高いマスクアライナーです。革新的なSubstrate Sucker装置を搭載し、精密な基板処理を可能にし、非常に正確で再現性のある高精度なフォトリソグラフィを可能にします。このシステムは、設計エンベロープ内で高い再現性、公差、およびアライメント精度を備えた複数の機能を適用することもできます。CANON MPA 500FABで使用されるプロジェクターレンズはハイエンド光学ソリューションであり、フルフィールドおよびエッジオブフィールドイメージングでのアライメント精度に優れた画質を提供します。また、紫外線から赤外線までの光源を用いたスペクトルイメージングも可能です。異なった波長で利用できる連続的な脈拍レーザーのダイオード（CPLD）および深いUltra Violet （DUV）の技術は単位に動的露出制御の柔軟性を提供するために統合されました。MPA-500FABは、高精度の光学顕微鏡と、低粒子レベルの汚染制御による最新の高速データ取得・画像処理技術を特長としています。アクティブエアリアルイメージング機能により、登録プロセスの速度と精度が向上し、重要なプロセス形状の正確なアライメントが保証されます。さらに、高度なオートフォーカス機、ABFR光源、およびS/Wにより、ツール全体のパフォーマンスが向上し、より高いパフォーマンスと信頼性が得られます。キヤノンMPA-500FABで採用されているCAM （Computer Assisted Maintenance）技術は、迅速かつ容易なメンテナンス、メンテナンス・リマインダー、予測メンテナンス機能により、適切な動作を保証し、短期的な故障による重大な損傷を回避します。また、データベース管理のための安全で最適化された自動アクセス資産も提供します。このモデルはまた、完全な真空吸収と片手で作業できる新しい基板吸盤装置を提供し、基板処理プロセスの最大の信頼性と精度を確保します。これにより、スループットと精度と再現性を最大化し、配置ステップとリフトオフステップの両方に理想的な環境を提供します。さらに、MPA 500FABは幅広いプロセス機能を可能にし、プロセス最適化のための特許取得済みのプロセス・オプションを提供します。ツールには、基板の動きを非常に正確に計算するセカンダリソースメソッド（SSM）とマッチエンジン（ME）、およびマスク交換時の時間損失を大幅に最小限に抑える最適化シーケンス（OS）が含まれます。最後に、このシステムは、機能サイズ、マスクレイアウト、およびプロセスシーケンスをほぼ無制限にカスタマイズして設計の柔軟性を提供します。