中古 VEECO Microetch LL250 #59880 を販売中

ID: 59880
Automatic loadlock ion mill, 4" Optical / Fiber optic system for endpoint detection Square substrates: Can be modified to accept 4" round substrates System used to mill: Platinum Titanium Nickel Copper Nichrome thin film metals Anisotropic etching includes: Au, Cu, Ni, Cr, and TiW Multistep etch processes for stacked layers (MLC, MCM): Ceramics Hybrids Thin film heads Flat panel displays High frequency devices Process flexibility with IBE, RIBE, CAIBE, flowcool substrate cooling Rotation and tilting options configured Pumping system includes: Mechanical pump and turbo pump for main chamber Mechanical pump and turbo pump for load lock / Transfer chamber Spare parts: Magnetic sensor Shutter gear assembly Shutter worm gear Molly screws for source Tungsten source wire Tungsten neutralizer wire Assorted insulators Assorted O-rings Fixturing plates, 4" PC: Comark Model: 4000 Series INTEL 486i 1994 vintage.
VEECO LL 250はナノ構造物の製造に使用されるイオンフライス盤です。これは、特にエレクトロニクスおよびオプトエレクトロニクス業界の用途において、高品質のナノ構造表面の製造に最適なツールです。このシステムは、優れた表面品質を達成するために焦点を当てたイオンビームに依存し、人間工学に基づいた設計で高度なアブレーションチャンバーを備えています。VEECO Microetch LL250は、ミリングパラメータのカスタマイズを可能にするフィールドプログラマブルユニットです。幅広いビームエネルギー、パルス長、ガス圧力を備えています。ビーム電圧のフルレンジは、異なる基板や材料のフライス加工機能を調整するために調整することができます。また、イオンビーム電流やエネルギー制御などの高度なイオンビーム診断とシステム監視も提供しています。LL 250は、四極ベースのイオンビームカラムを備えており、幅広いビーム(電子)エネルギーを可能にします。これにより、フライス加工プロファイルの柔軟性とカスタマイズが向上します。エネルギーとパルス長の柔軟性により、マイクロエッチングLL250は、MEMS材料、バイオマイクロ流体、光学部品など、さまざまなイオンエッチング工程に適しています。さらに、VEECO LL 250は高解像度のイメージングステージを備えており、基板の精密なアライメントと向きを可能にします。これは、ウェーハサイズ全体にわたって一貫したプロセスを保証するために重要です。イメージキャプチャとドリフト補正パターンにより、開発コストの大幅な削減とサイクルタイムの向上も実現します。また、VEECO Microetch LL250には動的ビームシェーピング機能が組み込まれており、不均一なビームエネルギーやスペースによって引き起こされる非均一または歪んだイオンプロファイルを最小限に抑えます。このダイナミックビームシェーピングにより、幅広い基板および材料の最高品質のエッチングとプロセスが保証されます。LL 250はまた、動作中に非常に低いノイズレベルを提供します。これは、クリーンルーム操作や敏感な電子部品を備えたデバイスでの使用に重要です。また、ノイズレベルをさらに低減するためのオプションのアクセサリーも含まれています。全体的に、Microetch LL250は、優れた表面仕上げでナノ構造を達成するのに最適な汎用性の高い高性能イオンミリングツールです。幅広い機能、機能、性能により、エレクトロニクス、オプトエレクトロニクス、MEMS業界のナノ構造表面の生産に最適です。
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