中古 TRION Phantom II #9219813 を販売中

ID: 9219813
ヴィンテージ: 2010
Reactive ion etcher (RIE) ICP System Chamber, 8" Gases: SF6, He, CHF3, CF4 Foot print: Width: 0.9m Length: 0.9m Operating system: Windows 2000 Power supplies: 230 V, 50/60 Hz, 1 Phase 2000 vintage.
TRION Phantom IIは、さまざまな表面処理に使用される高度なエッチャー/アッシャーです。それは材料およびプロセスの広い範囲のための優秀な選択です。この機械はイオン化反応を使用しており、精密制御と完全な信頼性を提供する高度な設計により、優れた歩留まりと品質の結果を達成することができます。Phantom IIは使いやすく直感的なインターフェースで設計されており、必要最小限のトレーニングで迅速かつ正確な操作を可能にします。その包括的なモーションコントロール装置は、そのプロセスが正確で、一貫した結果を保証するために反復可能であることを保証します。優れたモーションコントロールシステムに加えて、TRION Phantom IIは高度なコントロールユニットを備えています。このマシンは、プロセスを監視し、機能プログラムを作成し、包括的な技術情報にアクセスするために使用できます。この制御ツールは、一貫した結果を得るための正確さと再現性を保証します。また、ファントムIIは、高精度なエッチングとアッシングを保証する高度な冷却アセットを提供し、効率的な温度管理を提供します。この冷却モデルは、特に繊細な材料を使用する場合に、一貫した結果を保証するための鍵です。最後に、TRION Phantom IIは、ユーザーと処理中の材料の両方を保護するための幅広い安全機能も備えています。これらには、迷走粒子から保護するための安全シールド、および正確な制御のためのデジタル読み出しが含まれます。このマシンは、過熱が検出された場合に自動シャットオフなど、内部の仕組みの保護機能の範囲も備えています。ファントムIIは高度なエッチャー/アッシャーで、さまざまな材料やプロセスに精密な結果を提供します。これは、特に反復可能で一貫した結果が必要な産業用途に適しています。直感的な設計、高度な制御と監視システム、安全機能を備えたTRION Phantom IIは、さまざまなニーズに対応できる貴重な機械です。
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