中古 TEL / TOKYO ELECTRON 308 SCCM #9266666 を販売中
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ID: 9266666
ウェーハサイズ: 12"
Plasma etcher, 12"
TEL / TOKYO ELECTRON Telius DT Mainframe
(2) TEL / TOKYO ELECTRON Telius AC Racks
(4) KOMATSU FRV-6000-6 Chillers
(4) KOMATSU FRV-6000-6 Chiller controllers
(2) TEL SCCM DT.
TEL/TOKYO ELECTRON 308 SCCMは、半導体表面のフィルムをエッチングまたはアッシャーするように設計されたエッチャー/アッシャーのモデルです。真空蒸着、プラズマエッチング、ケミカルクリーニングのオールインワンプロセスを採用しています。最大30個の個々のウェーハを処理することができ、酸化物の残留物を無視した優れたウェーハ間の均一性を提供します。TEL 308 SCCMエッチャー/アッシャーは、高速プロセスチャンバーと自動制御機能を備え、高いスループットと再現性のあるプロセス制御を可能にします。このマシンは、信頼性の高い堅牢なガス結合接続と高性能プラズマバルブを使用して、信頼性と再現性の高いプロセスを提供します。オートテストとティーチモードにより、オペレータは標準的なレシピやプロセスの視覚的確認から目的のプロセスを確立することができます。このプロセスは、RF出力、圧力、流量、プラズマ組成など、いくつかの独立した変数を使用して制御することができます。このマシンには、エッチングとアッシングのためのパワーチューニング機能を備えた10kWのRFジェネレータが装備されています。この発電機は、過酷な運転条件や変動するガス供給下でも、最大限のプロセス実現と安定性を提供するように設計されています。TOKYO ELECTRON 308 SCCMエッチャー/アッシャーは、二重励起プラズマ源で構成され、プラズマ密度が均一になり、エッチング処理の範囲が広がります。この機能はまた、プロセスの歩留まりと品質を制限できるプラズマ不安定性のリスクを低減します。そのハイエンドの安全機能は、潜在的な危険からオペレータを保護するのに役立ちます。要約すると、308 SCCMは半導体製造用に設計されたエッチャー/アッシャーです。チューニング機能を備えた10kW RFジェネレータ、デュアル励起プラズマソース、自動化されたプロセス制御、堅牢なガスカップリング配信接続など、さまざまな機能を提供します。このマシンは信頼性が高く、高いスループットレート、一貫したウェーハ間の均一性、優れたプロセス結果を提供します。
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