中古 SAMCO RIE-331iPC #9395956 を販売中

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ID: 9395956
ヴィンテージ: 2013
Dry etcher Broken pump 2013 vintage.
SAMCO RIE-331iPCは、半導体デバイス製造における誘電エッチング用に設計された高度な非同期反応イオンエッチャー(RIE)です。このエッチング装置は、高い均一性、エッチングパラメータの精密な制御、再現可能なエッチプロファイル、および多様な誘電材料をエッチングする能力などの性能機能を兼ね備えています。ゲート酸化物の形成、接触エッチング、高アスペクト比エッチングなど、さまざまな半導体プロセスで使用できます。RIE-331iPCは真空チャンバー、ガス供給システム、高精度プラズマ源で構成されています。チャンバーは、1 × 10-3 Paのベースプレッシャーを実現できる垂直長方形構造で、直径8インチ、厚さ20mmまでの基板を保持できる4ピン静電チャックを備えています。ガスデリバリーユニットには、RF発電機とガスフロー制御用のガスマスフローコントローラが装備されています。SAMCO RIE-331iPCのバッチ加熱機は、エッチングサイクル中の基板温度変化を低減するように設計されています。RIE-331iPCの汎用性の高いプラズマソースは、さまざまなエッチングプロセスでの使用に最適です。それに300Wまで調節可能なパワーレベルがあり、可変的な頻度、可変的な電極のバイアスおよび調節可能なガスの構成があります。これにより、特定のアプリケーションに最適なエッチング条件が保証されます。SAMCO RIE-331iPCには、プラズマの均一性、圧力安定性、ガス使用量を測定できる高度な診断ツールも付属しています。RIE-331iPCは、信頼性の高いウェーハ生産のために設計された高度なエッチング資産です。その高度なガス供給モデルと調整可能なプラズマ源は、正確なエッチング制御を提供します。さらに、SAMCO RIE-331iPCのバッチ加熱装置は均一なエッチング結果を保証し、診断システムは正確なデータ収集と制御を保証します。RIE-331iPCは誘電エッチング用途向けの強力で信頼性の高いロータリーエッチャーです。
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