中古 PLASMATHERM / UNAXIS Versaline #9311006 を販売中
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ID: 9311006
ウェーハサイズ: 4"
ヴィンテージ: 2003
ICP Etcher, 4"
Loadlock
PM1 Chamber
Wafers type: Ceramic mechanical clamp
MX-400 Sidewinder wafer hander
SpectraWorks Optical endpointer
Gases: CF4, O2, N2, Ar, He, Cl2, BCl3, HBr
Heater:
JULABO Thermal H5S
JULABO Thermal H20S
Removed parts:
Turbo pump and turbo controller
Heat wrap for turbo
Roughing and backing pumps
RF Cables
Non-functional parts:
Wafer handler
BERKELEY 8-Axis controller
2003 vintage.
PLASMATHERM/UNAXIS Versalineは、マイクロエレクトロニクス業界で使用されるさまざまな材料の高い歩留まりと優れた表面品質を生成するように設計された最先端のエッチャー/アッシャー技術です。このハイテクエッチャー/アッシャーは、難加工金属を含むすべての材料に精密にエッチングおよびアッシング操作を実行できる実績のあるプラズマベースのプロセスを使用しています。その主な特徴は、高率生産、所有コストの低さ、汎用性、エッチングとアッシングの動きのための高速サイクルタイムなどです。UNAXIS Versalineは、無線周波数電力を使用して高温高出力プラズマを生成します。この熱エネルギーは、エッチングとアッシングのプロセスを駆動するために使用される運動エネルギーに変換されます。この技術により、PLASMATHERM Versalineはエッチングとアッシングをはるかに高い精度と精度で行うことができます。また、Versaline Etcher/Asherは独自の強化プラズマ技術を使用しており、正確な温度制御とプロセスガスへのプラズマの均一な分布を可能にします。これにより、チャンバーや材料の損失のない材料の均一な処理が保証されます。PLASMATHERM/UNAXIS Versalineは簡単なメンテナンスのために設計されており、多くの洗浄およびプロセス監視機能が含まれています。また、制御システムが簡素化されており、総所有コストの削減に役立ちます。またUNAXIS Versalineシステムは、安全性を向上させるために密封された蓋を備えた低圧高出力エッチングチャンバーと、低コストのプラズマトーチを備えており、運用コストを削減します。PLASMATHERM Versalineは、さまざまなサイズと種類の材料を処理することができます。プラズマと磁場源を組み合わせて高分解能の表面エッチングを実現しています。Versalineは、直線面から角度面または曲面面まで、さまざまな角度でエッチングできます。これにより、異なる形状やサイズの材料をエッチングする際に大きな柔軟性が得られます。さらに、PLASMATHERM/UNAXIS Versalineは、材料の層を積層して多層構造を作成することができ、微細な公差を持つ精密プロセスを可能にします。UNAXIS Versalineシステムは、バッチサイズのプロセスを正確に作成するのに理想的です。携帯電話や高精細テレビのディスプレイなどの高密度アセンブリに適しています。この信頼性の高いエッチャー/アッシャーは、多種多様な製造プロセスに適しており、小規模および大規模工程の生産性を向上させます。PLASMATHERM Versalineは、高速サイクル時間と優れたプロセス制御のため、高速プロトタイピングアプリケーションにも適しています。
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