中古 LEYBOLD HERAEUS 301 #293651893 を販売中

ID: 293651893
ヴィンテージ: 1990
Reactive Ion Etcher (RIE) 1990 vintage.
LEYBOLD HERAEUS 301は、マイクロおよびナノテクノロジー機器のフォトリソグラフィに使用されるエッチャーまたはアッシャーです。短波赤外線水晶ランプ、高速スキャンガルバノメーター、PLC (Programmable Logic Controller)で構成されています。水晶ランプはガルバノメーターによって制御される振動ミラーによって偏向される赤外線ライトを出します。次に、偏光は、要素をエッチングまたはアッシュする基板に焦点を当てます。301は集積回路の生産に使用される高精度のエッチャー/アッシャーです。半導体デバイス製造の最高水準に準拠した精度0。01ミクロンの±を備えています。このデバイスはまた、非常に耐久性があり、エッチングまたはアッシングプロセス中にすべての要素がきれいに保たれていることを保証するエアナイフを備えています。LEYBOLD HERAEUS 301は、125°C〜400°Cの広い動作温度範囲と10〜35ボルトの調整可能な電圧範囲を備えています。このデバイスはまた、調節可能な深さ範囲と0。1〜0。9ミクロンの調整可能な幅の範囲を持っています。301には、所望の手順に基づいて選択できるさまざまなモードがあります。例えば、半導体デバイスの製造にはエッチングモード、リソグラフィやエッチングプロセスにはアッシングモードが使用されます。スキャンモードは、高速または遅い動作にも設定でき、薄い基板にも使用できます。LEYBOLD HERAEUS 301は、サブミクロン制御、UVランプ制御、PLC制御、システム監視などのさまざまな設定オプションをユーザーに提供するタッチスクリーンインターフェイスによって制御されます。このデバイスには、データロギングを容易にするオンボードコンピュータもあり、パラメーターを自動および手動で制御できます。結論として、301は様々なフォトリソグラフィープロセスに使用できる高度なエッチャー/アッシャーです。その精度、耐久性、温度範囲、電圧範囲、および調節可能な深さは、それを非常に信頼性が高く、正確にします。オンボードコンピュータとインターフェースにより、さまざまな基板やプロセスに簡単に使用およびカスタマイズできます。
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