中古 ESC ELAS #9156747 を販売中
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ID: 9156747
ウェーハサイズ: 4"-8"
PVD System, 4"-8"
Sputter down cassette to cassette
Standard BROOKS Robot system
CTI Cryo pump main chamber, 10"
CTI Cryo load lock, 8"
Turbo pump / Rotary pump
ADVANCED ENERGY Pinnacle DC MAGNETRON Power supply
ADVANCED ENERGY RFPP RF20S Power supply
Techware II Ultra (3) Targets plus RF etch station: 20.25" x 4.75"
Dual level load lock
Bulkhead mounting maximum substrate size (Through-wall):
Large area substrates: Up to 16" x 16"
MRC 943 PVD System
Batch size:
(4) Wafers, 8"
(6) Wafers, 6".
ESC ELAS (Electrostatic-Lithographic-Asherの略)は、エスターライン社が開発した高度なエッチングおよびアッシング装置です。ELASは、プロトタイピングと大量生産アプリケーションの両方において、信頼性と再現性の高い結果を提供するように設計されています。ESC ELASは、iMix、 iControl、 iX-maxの3つの接続ユニットで構成されるモジュラーエッチングおよびアッシング機器です。iMixはエッチングとアッシングに必要な化学を提供し、iControlはエッチングとアッシングプロセスのコントローラであり、プロセスの正確な制御とデータ取得を可能にします。iX-maxは、エッチング工程の自動化を支援する高精度のX軸モーションコントロールシステムです。ELASは静電リソグラフィ技術を使用して動作します。このタイプのリソグラフィは、以前にパターン化された基板にさらされたときに不要な材料を除去するエッチング溶液を利用し、表面にエッチングされた望ましい特徴だけを残します。その結果、従来のウェットエッチング処理よりも高精度なエッチングが可能になりました。ESC ELASは、銅やその他の金属、誘電体、半導体など、さまざまな材料をエッチングしてアッシングすることができます。ELASは、使用する基材や化学に応じて、ミクロンレベルの特徴に優れた解像度とパターンを提供します。また、柔軟性の高い機械であり、ユーザーの正確な要件に合わせてカスタマイズできるエッチングおよびアッシングプロセスの範囲を可能にします。ESC ELASユニットには、エッチングとアッシングの前後に基板を検査および監視する統合計測機が含まれています。統合された計測モジュールにより、ウェーハの高速スキャンを繰り返し、非接触および非破壊測定を行うことができます。さらに、ELASはユーザーフレンドリーに設計されており、オペレータは直感的なグラフィカルインターフェイスを使用してタッチスクリーンまたはリモートコンピュータからプロセス設定を操作することができます。全体的にESC ELASは、高精度かつ高精度な結果を得るために設計された信頼性の高い効果的なエッチング/アッシング機です。高度な技術と統合計測を備えた汎用性の高いマシンで、プロトタイピングと大量生産の両方のアプリケーションに最適です。
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