中古 AMAT / APPLIED MATERIALS AME 8330 #9226105 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS AME 8330は、材料の薄膜エッチングに使用される先進モデルのサブネエッチング装置です。ポリシリコン、アモルファスシリコン、シリコン/ゲルマニウムなどの各種材料の高性能・大面積エッチングが可能です。AMAT AME 8330エッチャー/アッシャーは、幅広い電子機器レベルの構造の生産を可能にします。応用材料AME 8330は0。01 mbarから1。6 mbarまで及ぶプロセス部屋の圧力が付いている血しょう強化されたドライエッチャーです。ウエハサイズは300mmから450mmまで及ぶことができます。このチャンバーには7セッティングプロセスガスマニホールドがあり、乾燥またはウェットエッチング、成膜、アッシングなどのさまざまなエッチング処理に使用できます。7つのガス設定は、酸素、窒素、アルゴン、塩素、および四フッ化ケイ素（SiF4）などのガスをサポートします。これにより、ユーザーはエッチングと蒸着の両方のプロセスを含むマルチステッププロセスを実行できます。このシステムは、50Wから400Wまでのスロットルパワー設定を備えた高出力マグネトロン源を備えており、基板への電力を正確に制御することができます。また、高速ウェーハの動きを可能にする高トルクステージドライブを備えています。プロセス部屋の温度は室温から300°Cに及ぶ必要に応じて調節することができます。AME 8330には、オンプロセス解析を容易にするための複数の診断ツールが装備されています。これらには、高精度の圧力制御ユニットを備えた独立したイオンゲージと、プロセスのガスやその他の材料特性を監視するために使用できる放射分光計が含まれます。また、プロセス中にサンプル条件を追跡するために使用できるビデオウェハモニタリングマシンを備えています。このエッチャー/アッシャーは高度に自動化され、ユーザーフレンドリーであり、幅広い研究およびアプリケーションに適しています。ソフトウェア制御ツールは、ユーザーが複雑なシーケンスをプログラムすることを可能にし、統合されたソフトウェアは、カスタムエッチングのレシピとシーケンスを保存する柔軟性を提供します。この資産には、保存されたレシピとエッチング条件を保存するためのレシピ管理ソフトウェアも組み込まれています。さらに、ユーザーはさらに分析するためにローカルドライブにデータをダウンロードすることができます。結論として、AMAT/APPLIED MATERIALS AME 8330は、高度な電子デバイスとサンプル構造の広い範囲を生成するように設計された先進モデルエッチャー/アッシャーです。高精度、制御、およびスループットで、効率的で均一なエッチングのために設計されています。ユーザーフレンドリーなインターフェース、強力なソフトウェア、統合ツールを備えたAMAT AME 8330は、さまざまな材料のエッチング処理に最適なモデルです。