中古 TEL / TOKYO ELECTRON 803 #9254675 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON 803は、シングルウェーハ拡散炉と付属品です。円筒形のキャビティを採用し、底面にウェーハを内側に配置し、底面エッジ冷却炉の設計を用いて加熱する。高温シングルウェーハ拡散炉は、最大1150°Cの性能と± 3°Cの均一性を有し、半導体産業の酸化・拡散プロセスに最適です。この炉はPLC（プログラマブルロジックコントローラ）を備えており、O2フロー測定および制御装置を自動化し、真空タイトアクセサリを備えており、迅速な熱処理プロセス開始とエンドポイント検出を実現しています。この炉にはMobile-ENDISサーマルバリアがあり、プロセス操作中のサーマルバリアの均一性を維持することで、エネルギーの浪費を減らすことができます。ユーザーフレンドリーなグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）により、プロセス温度とガスの流れを簡単に設定できます。プログラマブルロジックコントローラは、プロセスパラメータを正確に制御します。TEL 803は、炉の内部に空気を循環させることでエネルギー消費を低減し、乱れや熱損失を最小限に抑えるための対流システムを搭載しています。東京エレクトロン803には、作業中の工程の均一性を確保したVCR-40サーベイポートや、ウェハ収納用の冷却板組み立て、手動加熱率の調整なども備えています。VCR-40ポートは、炉の温度の均一性とプロセスガス内のドーパントの化学濃度を監視することができます。また、データレコードの詳細な分析も可能です。803はまた、使用データおよびプロセス情報を処理および表示するためのPCベースのソフトウェアとともに、リモートプロセス監視システムを備えています。リモートプロセス監視システムは、手動で介入することなく、すべての動作パラメータを継続的に監視することができます。TEL/TOKYO ELECTRON 803には、高度な温度制御、酸化アーマー技術、簡単にアクセスできる検査窓、プロセスガス診断など、さまざまな機能が搭載されています。これらの特徴はすべて、現代の半導体産業のニーズを満たすように設計された効率的でユーザーフレンドリーな拡散炉を製造するために組み合わされています。